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半導體洗凈液

發布日期: 2017-9-9 15:57:21


水洗洗凈液CMP1400S

特性與賣點:高PH值,有效去除有機和無機微粒、低泡、易漂洗,極低金屬離子含量。太陽能晶園研磨后的油脂,研磨拋光劑,無機粉塵,適合半導體回路制造、半導體組件、光刻膠顯影后、CMP前后處理、CVD前后處理洗凈液。

使用方法:1、刷洗、噴淋、超聲波

     2、濃度:3-30%

   裝:20L/


水洗洗凈液CMP1406

特性與賣點:高PH值,藍寶石洗凈液,晶園研磨后表面所附著油脂,蠟,研磨拋光劑與粉塵,洗凈力佳,螯和力強,低泡易生物分解,

      低COD,螯合分解力強,低殘留,易漂洗,耐硬水。

使用方法:1、刷洗、噴淋、超聲波

     2、濃度:3-30%

   裝:20L/


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